啥是光刻机_啥是光刻机

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＞▂＜ 芯碁微装申请用于直写式光刻机的安全防护专利,与 PLC 软件联动达到...金融界 2024 年 8 月 14 日消息,天眼查知识产权信息显示,合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请一项名为“一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法“,公开号 CN202410699512.5,申请日期为 2024 年 5 月。专利摘要显示,本发明公开了一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法...

光刻机(胶)概念13日主力净流出1.95亿元,盛剑科技、张江高科居前8月13日,光刻机(胶)概念上涨0.98%,今日主力资金流出1.95亿元,概念股67只上涨,11只下跌。主力资金净流出居前的分别为盛剑科技(8310.0万元)、张江高科(3519.22万元)、大族激光(3355.02万元)、芯源微(1844.42万元)、南大光电(1275.48万元)。

光刻机(胶)概念9日主力净流出8742.73万元,宝通科技、航天智造居前8月9日,光刻机(胶)概念下跌0.42%,今日主力资金流出8742.73万元,概念股17只上涨,57只下跌。主力资金净流出居前的分别为宝通科技(4303.1万元)、航天智造(2895.0万元)、蓝英装备(1929.06万元)、圣泉集团(1601.39万元)、强力新材(1399.07万元)。

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光刻机(胶)概念8日主力净流出1.52亿元,宝通科技、赛微电子居前8月8日,光刻机(胶)概念下跌0.4%,今日主力资金流出1.52亿元,概念股32只上涨,43只下跌。主力资金净流出居前的分别为宝通科技(2837.79万元)、赛微电子(1732.22万元)、航天智造(1705.68万元)、晶方科技(1406.07万元)、斯迪克(1153.26万元)。

价值3.83亿美元 Intel拿下全球第二台High NA EUV光刻机8月6日消息,在近日的财报电话会议上,Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV(极紫外光刻机)。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一,其分辨率达到8纳米,能够显著提升芯片的晶体管密度和性能,是实现2nm以下先进制程大规模量产的...

ˋ＾ˊ〉-# imec 首次成功利用 ASML High NA 光刻机实现逻辑、DRAM 结构曝光IT之家 8 月 8 日消息,比利时微电子研究中心 imec 当地时间昨日宣布,在其与 ASML 合作的 High NA EUV 光刻实验室首次成功利用 High NA EUV 光刻机曝光了逻辑和 DRAM 的图案结构。在逻辑图案方面,imec 成功图案化了单次曝光随机逻辑机构,实现了 9.5nm 密集金属线(IT之家注:对应...

光刻机(胶)概念7日主力净流出2.21亿元,张江高科、大族激光居前8月7日,光刻机(胶)概念下跌0.22%,今日主力资金流出2.21亿元,概念股23只上涨,51只下跌。主力资金净流出居前的分别为张江高科(2864.71万元)、大族激光(2648.72万元)、晶方科技(2479.21万元)、蓝英装备(2062.78万元)、双乐股份(2000.48万元)。

光刻机(胶)概念6日主力净流出1.4亿元,捷捷微电、强力新材居前8月6日,光刻机(胶)概念上涨1.71%,今日主力资金流出1.4亿元,概念股75只上涨,2只下跌。主力资金净流出居前的分别为捷捷微电(3097.27万元)、强力新材(2992.34万元)、大族激光(1675.51万元)、张江高科(1577.46万元)、湖北宜化(1191.59万元)。本文源自金融界

冠石科技:引入首台电子束掩膜版光刻机,是40纳米技术节点量产及28...金融界7月26日消息,有投资者在互动平台向冠石科技提问:近日网上有消息称公司全资子公司冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机。请问该消息是否属实,对公司实现光掩膜版量产有何意义?公司回答表示:目前,公司半导体光掩膜版项目涉及的关键设备全部为进口设备,设备交付时...

英特尔:美俄勒冈工厂导入第二台光刻机【证实:位于美国俄勒冈州的制造工厂正导入第二台高数值孔径极紫外光刻机。】这一消息引发市场关注。其对相关产业或产生一定影响。